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Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统是市面上很具操作性的飞秒系统，采用结构紧凑、全密闭的工业级激光源，无需二次校准和清洁维护。系统提供多种波长可选，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波长切换控制，相对应的能量密度为10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm)，在长期稳定运行情况下剥蚀稳定性RSD能达到0.1%。同时系统配备HelEx II双体积双气路涡流样品池，提供快速冲洗效率和持续的剥蚀环境。
飞秒激光剥蚀
Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统产品特点：
美国CETAC的激光剥蚀/激光烧蚀产品线源于全球行业之一的Photon Machines团队（缩写PMI），其第一代产品于1995年问世，该品牌具有丰富的激光剥蚀产品设计、研发、制造及应用经验，产品线涉及213nm固体激光、193nm准分子激光、飞秒激光系统（与ICP-MS联用），及CO2和二极管激光熔融系统（与惰性气体同位素质谱联用），此外多种高性能配件与更加直观的分析软件能够增强并完善系统的功能，足以为全球元素分析用户提供先进的激光剥蚀技术。
Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统技术参数：
激光源为Light Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ
激光波长1028nm、257nm、206nm可选
脉冲宽度<190fs-10ps
脉冲能量可达2mJ
可调脉冲频率1-200kHz（步进1Hz）
波长转换选项广（谐波发生器、OPA、NOPA、连续发生器）
只经历一次光学折射以减少脉冲展宽
每个波长都有独立的光路
独立的视频和激光光学控制单元，能够更好的查看样品剥蚀点
连续可调光斑大小1-65μm
兼容HelEx II双体积双气路涡流样品池
集成的冷却系统减少实验室空间
Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统应用领域：
基础分析，半导体材料分析，地质样品分析，同位素比值研究
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